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熱處理設(shè)備
LDMC-C輝光離子氮化爐為國內(nèi)專業(yè)制造輝光離子氮化爐廠商武漢熱處理研究所制造。設(shè)備功率為50KW,控制系統(tǒng)采用先進的DLC觸摸屏強度控制器,氮化后HV900,滲層根據(jù)材料和工藝要求達到0.5mm。
精密井式無公害可控滲氮爐產(chǎn)自南京光英爐業(yè)有限公司,設(shè)備功率60KW,最高溫度:650℃,控溫精度:±1.3℃,溫度、氨勢、滲層均為微機控制,為產(chǎn)品零件提供滲氮、碳氮共滲、氧氮共滲,其穩(wěn)定性和精確性符合航空產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn),配無公害裝置,可達到環(huán)保要求的精密滲氮。
RJ3-65-6井式回火爐產(chǎn)自南京光英爐業(yè)有限公司,設(shè)備功率65KW,最高溫度650℃,控溫精度:±5℃,溫度控制柜上有日本進口雙排數(shù)顯智能表兩臺,??茻o紙記錄儀一臺,主要用于零部件調(diào)質(zhì)及淬火工件的回火。
高頻感應(yīng)加熱裝置是由JGRC150/50型IGBT固態(tài)高頻電源和GCJNC10200立式數(shù)控機床組成,固態(tài)高頻電源最大功率150KW,逆變器件:德國產(chǎn)EUPEC IGBT IXYS快速二極管,立式數(shù)控機床最大回轉(zhuǎn)直徑300mm,最大加工長度2000mm,高頻淬火設(shè)備主要用于金屬零件的表面感應(yīng)連續(xù)淬火、分段連續(xù)淬火;齒輪表面、軸承套斷面淬火、軸外圓局部淬火。